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周口师范学院半导体物理学
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本题添加时间:2023/4/3 12:59:00
圆梦客服:王老师 19139051760(微信同号) 19139051760(微信同号)
对于Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体,随着平均原子序数的增加()
A.禁带宽度增大
B.禁带宽度减小
C.最低的导带极小值从布里渊区中心移向边界
D.最低的导带极小值在布里渊区中心不变
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出自
周口师范学院半导体物理学
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周口师范学院
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1、
GaAs的导带极值位于布里渊区() A.中心 B.<111>方向边界处 C.<100>方向边界处 D.<110>方向边界处
2、
在光电转换过程中,硅材料一般不如GaAs量子效率高,其因是() A.禁带较窄 B.禁带是间接型跃迁 C.禁带较宽 D.禁带较宽
3、
欲在掺杂适度的无表面态n型硅上做欧姆电极,以下四种金属中最合适的是() A.In(Wm=3.8eV) B.Cr(Wm=4.6eV) C.Au(Wm=4.8eV) D.Al(Wm=4.2eV)
4、
硅中掺金的工艺主要用于制造()器件 A.高可靠性 B.高反压 C.高频 D.大功率
5、
半导体中的载流子扩散系数的大小取决于() A.复合机构 B.散射机构 C.能带结构 D.能带结构
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