[简答题,4分] 简述实际半导体中杂质与缺陷来源。试题答案_出自联大系统周口师范学院半导体物理学

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本题添加时间：2023/4/3 12:59:00
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[简答题,4分] 简述实际半导体中杂质与缺陷来源。
答案是:①原材料纯度不够；②制造过程中引入；③人为控制掺杂。出自周口师范学院半导体物理学联大系统周口师范学院
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