半导体电阻应变片在测量某一构件应变时,其电阻的相对变化主要是由( )引起。·供桥电源的变化。·半导体几何尺寸的变化;·半试题答案

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本题添加时间：2024/6/15 12:01:00
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半导体电阻应变片在测量某一构件应变时,其电阻的相对变化主要是由( )引起。 ·供桥电源的变化。 ·半导体几何尺寸的变化; ·半导体电阻率的变化; ·贴片位置的温度变化;
答案是:单选题 ·半导体电阻率的变化; 出自佳木斯大学语言治疗学青书学堂系统佳木斯大学
更多试题>>>> 1、表示某一时刻的数据与另一时刻数据之间联系的紧密性的函数是( )。 ·相干函数 ·联合概率密度函数 ·自相关函数 ·互相关函数 2、以下不属于变形观测的测量点的是( )。 ·基准点 ·放样点 ·工作点 ·观测点 3、重要混凝土建筑物上的裂缝观测通常要求有较高的精度,以下不属于观测的内容的是( )。 ·缝宽 ·缝深 ·缝长 ·裂缝两侧混凝土块体的三维位移量 4、基准线观测系统一般布设三级点位,哪种点位用控制工作基点。( )检核基点 ·检核基点 ·工作基点 ·观测点 ·水准点 5、变形观测方法的选择不取决于( )。 ·变形的规模 ·变形的大小 ·变形的速度 ·变形体的特征